主营: 电子真空仪器设备技术开发、技术转让、技术咨询;真空设备制造、维修;机械加工;自营和代理各类商品和
咨询电话:
13940542034
起订量 | ≥11 |
PRODUCT DETAILS
主要用途:
磁控溅射仪设备已形成系列产品,多种规格型号、单室、双室、多室各种形式。与蒸发、电子束、激光镀膜联合组成多功能镀膜系统。
特别适用于新材料、新器件、新工艺研究,多室连续磁控制镀膜设备已用于生产。
研制的单面磁控靶;矩形、柱形磁控靶;电磁磁控靶及对靶溅射等。直流(D.C)射频(RF)兼容。可以镀制作各种薄膜材料。采用分子泵抽气系统,提供洁净的真空环境,用于制备金属膜、介质膜及半导体薄膜。多靶可以制备各种多层膜,备有样品预处理室可对样品进行反溅清洗、热处理等。设备功能齐全,技术指标先进,可根据用户要求进行设计,以满足用户各种不同需求。
适用于镀膜:半导体薄膜、介质薄膜、绝缘体薄膜、磁性材料薄膜、
超硬材料薄膜、太阳能电池薄膜等各种功能性薄膜。
膜层厚度监测、原位生长分析