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双源电阻热蒸发设备 型号:SLZF270A 该设备是一台高真空电阻蒸发设备 可蒸镀 熔点1300度以下金属 膜厚：100-400NM；均匀性好于10%. 尺寸：直径270mm 高300 结构：上开盖 蒸发舟在下 样品架在上 前面安装观察窗 设备配置： 名称 数量 型号/性能 真空室 1 直径270mmX300mm 蒸发电源 1 SL1000（1000w） 蒸发 ...
实验 磁控溅射 镀膜 厂家
双靶磁控溅射设备 1.设备性能： 该设备是一台单腔室磁控溅射设备，可溅射各种金属材料，真空腔室选用优质304不锈钢加工 圆柱型 尺寸350mm*300mm，前开门结构；顶部安装有2支2英寸磁控靶（与基片台距离可调），每只靶配单独挡板；底部装有样品台 可旋转 可加热，内配有照明系统 可照明 ；前面配有观察窗；真空获得系统安装于真空室侧面 包括600分子泵，4L机械泵，压差阀，波纹管软连接，电控系 ...
PECVD 气相化学沉积 真空设备
1、工作条件 （1） 环境温度： 0 - 40℃； （2） 相对湿度： 20-50%； （3） 适用电源规格：380V ( AC )，50Hz； 2、技术参数 pecvd等离子体增强化学气相沉积设备主要由真空室、反应源、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成； 3、技术指标： （1）极限真空：5X10-5Pa （2）真空室尺寸 直径400m ...
PECVD气相化学沉积设备
1、工作条件 （1） 环境温度： 0 - 40℃； （2） 相对湿度： 20-50%； （3） 适用电源规格：380V ( AC )，50Hz； 2、技术参数 pecvd等离子体增强化学气相沉积设备主要由真空室、反应源、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成； 3、技术指标： （1）极限真空：5X10-5Pa （2）真空室尺寸 直径400m ...
公司介绍
Company Introduction
